Nanochem净化概述

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设计了纳米煤气净化器用于超高纯度应用- 包括用于源,使用点,散装和近似净化的全面解决方案 - 提供最多9个9的纯度气体。

徽标

自1985年以来,Mat狗万滚球heson Nanochem®净化器提供了前所未有的净化解决方案,提供各种行业,包括半导体制造,LED生产,能源工艺,焊接等。

Nanochem UHP气体纯化。

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  • 气体净化培养基的类型
  • 净化器硬件配置的选择

气体净化:
高性能净化介质和专业化硬件。

L-300 Nanochem气体净化器的图像

nanochem®净化器在一个系统中结合了气体特定的净化介质和超高纯度硬件,以消除由以下方式引起的杂质:

  • 上游泄漏
  • 不正确的气缸换出
  • 在气缸耗尽期间增加杂质浓度
  • 气体系统组件污染
  • 从组件/管道“止袋”和软座位的虚拟泄漏

气体净化:
长净化器寿命和高净化器效率。

nanochem®净化器提供最高的寿命和杂质清除的最佳效率。nanochem净化器可用于:

  • 硅 - 源气体
  • 氮化物气体
  • 蚀刻剂
  • 吹扫气体
  • 掺杂气体
  • 挥发性金属
  • 载气

徽标

将氧气,水和其他污染物除去UHP水平

将氧气,水分和其他污染物移至<100 ppt(每万亿份)上,仅受到甚至最先进的分析仪器的检测限制。

纳米复合材料紧凑且易于使用®净化器可以安装在煤气柜内或工具工具内。大多数净化器不需要加热或冷却,并且能够处理广泛的流量和压力。

狗万滚球Matheson拥有该行业中最广泛,内部评估实验室之一,以评估天然气系统组件的质量。该益处是为纳米清除选择的组件®净化产品的质量最高。

完成“Live Gas”测试以确保净化器在其销售的特定过程气体中满足或超过性能规格。

气体净化性能效益和应用

nanochem®净化器提供了许多好处,例如降低设备停机和防止气体供应质量和上游系统的波动。半导体/化合物半导体行业的典型性能益处是:

  • 增加载流子浓度,流动性增加
  • 更快的水晶生长速率
  • 改善了表面形态的均匀性
  • ePI层和基板中的缺陷较少
  • 更长的设备寿命和减少的组分腐蚀

半导体应用包括制造IC和高亮度LED。焊接应用包括用于半导体Fab的管道,航空航天部件的制造,以及化学和生物技术工业的工艺设备的制造。

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我们净化的气体(部分上市)

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空气 空气
AR. arg
ar(焊接) 氩气(焊接)
Ash3. ar
Ash3. 胂(1-10%)
BCL3. 硼三氯化物
BF3. 硼三氟化物
C2F6 六氟乙烷
C2H2. 乙炔
C2H4 乙烯
C2H6. 乙烷
C3F6. 六氟丙烯
C3F8 八氟丙烷
C3H6. 丙烯
C3H8. 丙烷
C4F10. 全氟丁烷
C4F6 六氟丁二烯
C4F8 八氟环丁烷
C4H10. 丁烷
C4H10. 异丁烷
C4H8 丁烯
C5F8 八氟环戊烯
ccl2o. 光气
CCL4. 四氯化碳
CDA. 干净的空气
CF4. 碳四氟化物
CH2F2 二氟甲烷
CH3CL. 甲基氯化物
ch3sh. 甲基汞
ch3sih3. 单甲基硅烷
CH4 甲烷
CHF3 氟化物
CHF3 三氟甲烷
氯铝 氯铝
CL2.
CO. 一氧化碳
二氧化碳 二氧化碳
COS. 羰基硫化物
CS2. 碳二硫化物
环状碳氢化合物 环状碳氢化合物
D2
氟碳碳 氟碳碳
GECL4. 四氯化锗
GEF4 四氟化锗
geh4 杰明
geh4 生命(1-10%)
H2.
H2S. 硫化氢
H2SE. 硒化氢
卤素色 卤素色
HBR. 溴化氢
HCL. 氯化氢
HF. 氟化氢
碳氢化合物 碳氢化合物
kr.
N2.
N2O. 笑气
NE.
NH3.
一氧化氮
NO2 二氧化氮
O2
o3. 臭氧
PH3
PH3 膦(1-10%)
SF6 六氟化硫化物
Si2H6. 白兰
SICL4. 四氯化硅
siclh3. 单氯硅烷
sicl2h2. 二氯硅烷
sicl3h2. 三氯硅烷
SIF4 硅四氟化物
sih3ch3. 甲基硅烷
SIH4. 硅烷
SO2 二氧化硫
XE.